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作者:http://www.zzwzxy.com 发布时间:2021-07-22 11:13:50

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(1)坩埚喷涂是利用不同于其它喷涂技术和方法,坩埚喷涂是涂装坩埚通过加热使其液态混合物(氮化硅)迅速附着在坩埚表面。

(2)热处理的目的是提高涂层结晶度,避免内应力引起的涂层脱落,从而提高涂层的韧性和附着力。  

(3)草莓视频APP污污污坩埚加热喷涂技术是将配制好的硅液涂料用净化的压缩空气进行喷涂,喷枪压力为20psi~40psi,喷涂距离为25~30厘米,

(4)定位着落坩埚宽度为15~20厘米,在喷涂过程中一般一次喷涂厚度控制在小于0.01mm内,

(5)涂装坩埚的方法可分为加热喷涂与滚涂两种方法涂覆工艺,滚涂涂装其技术工艺简单,涂装涂层不均,时间长,氮化硅使用量大。

(6)否则在加热过程中易出现龟裂.起泡.针孔等,坩埚喷涂温度在40℃~65℃控制内.喷涂完成后再进行热处理,


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